、 1、用X射线荧光光谱仪检测时，对样品有什么要求吗？ 2. XRF分析的样品制备方法有哪些？ 3. 熔解-X射线荧光光谱法测定初级和次级数量元素， 1. b) 各元素特征X射线的强度不仅与激发源的能量和强度有关，还与激发源的能量和强度有关。
与样品中该元素的含量有关。
c) 根据各元素特征X射线的强度，还可以得到各元素的含量信息，这是X射线荧光分析的基本原理。
2、测量条件：X射线管激发电压50kV，电流50mA，样品罩直径30mm，粗准直器，真空光路16Pa，分析元素测定条件见表816。
3、样品非石英玻璃，或者硅含量很少。
2、X射线是否照射到样品上。
一般来说，样品至少需要1平方米。
本文目录概述： 1. X射线荧光 用光谱仪测试时对样品有什么要求吗？ 2. XRF分析的样品制备方法有哪些？ 3.采用熔化芯片-X射线荧光光谱法测定主元素和次元素。
使用X射线荧光光谱仪检测时对样品有什么要求吗？ 1. b) 各元素的特征X射线强度不仅与激发源的能量和强度有关，还与样品中该元素的含量有关。
c)根据各元素特征X射线的强度，还可得到各元素的含量信息。
这就是X射线荧光分析的基本原理。
2.测量条件。
X射线管激发电压50kV，电流50mA，样品掩模直径30mm，采用粗准直器，真空光路16Pa。
分析元素的测定条件见表816。
3. 样品不是石英玻璃，或含有很少的硅。
2、X射线是否照射到样品上。
一般来说，样品至少需要1平方毫米的平面。
X射线必须直接照射在这个平面上。
玻璃纤维通常是极细的圆柱体。
4、为避免基体效应的影响，标准样品应与待测样品具有相同或相似的材料成分。
5、根据分析要求和仪器性能选择元素分析线。
X射线管电压为50kW，管电流为50mA，通道孔径为Φ30mm，样品盒面罩为Φ30mm。
测量在真空光路中进行。
测定条件如表40.8所示。
XRF分析的样品制备方法有哪些（2）叶汁渗出法。
将切下的茎段浸入水中并施加水压。
叶子或茎端的切口处会出现渗出液。
将铜网与渗出液表面接触，然后进行检查。
(3)分层开发法。
按照校准标准制备方法制备未知样品，放入样品盒中，确认无误后放入自动样品交换器中，启动相应的分析程序，对样品进行测量。
XRF定量分析需要标准样品有一定的浓度范围。
a) X射线用于元素分析。
它是一种新的分析技术。
但经过20多年的探索，现已完全成熟，成为冶金、地质、有色金属、建材、商检、环保、卫生等领域广泛应用的技术。
微量钡元素分析-X射线荧光光谱定量（方法代码：Ba-XRF05） （1）检测仪器：波长色散X射线荧光光谱仪。
(2)方法说明：将制备好的粉末样品（200目）在铝模中压制成片，用荧光光谱仪直接测试目标元素。
(1)XRF法样品制备：XRF法是一种高精度的分析方法。
影响分析精度的因素主要是样品制备、仪器稳定性和计数统计波动。
后者可以通过电子技术和测量方法的改进得到有效控制，因此样品前处理成为影响分析精度的主要因素。
一般是定性分析。
目前，XRF主要用于ROHS。
主要用于定性分析，看是否符合ROHS标准要求。
当然，如果含量测量不需要很高的百分比，就可以满足精度要求，可以定性。
同时，可以使用更多的标准样品来提高其测试精度。
熔融片状X射线荧光光谱法测定主量和微量元素 1、用粉末样品压片制备样品，用X射线荧光光谱仪直接测定Al2OCaO、Fe2OK2O、MgO、Na2O、SiOCe、Cr、Ga样品中的La、Mn、Nb、P、Pb、Rb、Sc、Sr、Th、Ti、V、Y、Zn、Zr24主要、次要和痕量成分。
2、根据分析要求和仪器性能选择元素分析线。
X射线管电压为50kW，管电流为50mA，通道孔径为Φ30mm，样品盒面罩为Φ30mm。
测量在真空光路中进行。
测定条件如表40.8所示。
3、首先使用X射线荧光光谱仪直接测量玻璃片中待测元素的特性。
接下来，采用X射线荧光光谱法（XRF）熔融玻璃片法对样品进行测试。
最终可以消除样品的粒径、密度和成分不均匀性。
4、特征X射线：样品内层的电子被入射电子激发后，外层的电子会跳到内层填补空位，产生具有特征能量的X射线。
释放。
当用X射线检测器检测该微区域的特征波长时，可以据此确定元素。
5. 产生荧光是因为初始X射线光子能量足够大，足以在样品中产生电子和空穴，从而产生二次辐射（荧光）。
这种二次辐射是构成样品的元素的特征。